Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵 TG5503
进气法兰VG500 系列抽速N2 （升/秒）5500N2（带保护网） （升/秒）5200H2 （升/秒）4400最大压缩比N21×108H25×103极限压力VG （Pa）<1×10-6VG （托）<7.5×10-9最大气体流速※1N2 （SCCM）1200启动时间（分钟）25-35停机时间（分钟）30-40允许的辅助压力（Pa / Torr）200/1.5推荐的辅助泵（升/分钟）15
| 进气法兰 | VG500 系列 | |
| 抽速 | N2 （升/秒） | 5500 |
| N2（带保护网） （升/秒） | 5200 | |
| H2 （升/秒） | 4400 | |
| 最大压缩比 | N2 | 1×108 |
| H2 | 5×103 | |
| 极限压力 | VG （Pa） | <1×10-6 |
| VG （托） | <7.5×10-9 | |
| 最大气体流速※1 | N2 （SCCM） | 1200 |
| 启动时间 | （分钟） | 25-35 |
| 停机时间 | （分钟） | 30-40 |
| 允许的辅助压力 | （Pa / Torr） | 200/1.5 |
| 推荐的辅助泵 | （升/分钟） | 1500 |
| 润滑油量 | （毫升） | 1000 |
| 安装姿势 | 垂直 （±10°） | |
| 质量 | （公斤） | 250 |
| 控制器类型 | TC5503 系列 | |
用
・半导体制造
・电子枪排气、离子源排气
・FPD 制造
・表面处理、表面改性
・各种电子元件的制造
・管材、光学元件的制造
・加速器、放射线设施、聚变研究
・热处理
・研发
* 对于清洁工艺，请选择 TG-F 系列、TG-M 系列或 TGkine 系列。