【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1501

一、产品简介

二、核心规格参数

1. 炉芯管：标配透明石英管，可选氧化铝管，最大内径 φ50mm

2. 加热温区：单温区独立控温，加热器功率 1.2kW

3. 最高加热温度：石英管 1000℃，氧化铝管最高 1400℃，峰值 1150℃

4. 炉内压力控制：5‑100Pa 可调，电容真空计检测

5. 反应气体流量：10‑100sccm，兼容氢气、甲烷、乙烯、乙炔等工艺气体

6. 真空系统：油回转真空泵，抽速 100‑150L/min

7. 控制方式：多段程序升温，工艺参数可编辑存储，阀门开关控制压力

8. 电源规格：单相 AC200V・20A

9. 整机重量：128kg，外形尺寸 1450×500×1200mm

10. 安全配置：可燃气体报警、故障联锁停机、空气喷射式废气稀释排放单元

三、产品特点

1. 大口径炉芯管，可容纳更大尺寸试样，单次装样量优于同系列小口径机型。

2. 单温区程序控温，温度曲线可自由编辑，控温稳定可靠。

3. 5‑100Pa 压力可调，满足多种低压 CVD 工艺条件探索。

4. 质量流量控制器精准供气，适配各类碳基薄膜生长实验。

5. 安全防护配置齐全，可燃气体报警联锁停机，废气稀释排放，保障实验室操作安全。

6. 整机预装配出厂，现场接通气源即可试验，腔体拆装维护简单。

四、应用领域

1. 高校科研院所：石墨烯、二维材料、碳纳米管薄膜 CVD 制备。

2. 新材料研发：碳基薄膜、纳米材料试样化学气相沉积。

3. 材料实验室：高温薄膜生长、材料改性工艺开发。

4. 通用工艺：较大尺寸试样低压化学气相沉积研发。