【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1003
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1003【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1003一、产品简介SFCV‑1003 为管式炉型三温区热 CVD 设备，采用氧化铝炉芯管，整机一体化框架。三温区结构可以实现更长的恒温区间，适合石墨烯、二维材料、碳纳米管等薄膜研发，多用于高校与科研院所试样实验。设备集成管式加热炉、供气气路、真空排气、压
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1003
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1003
一、产品简介
SFCV‑1003 为管式炉型三温区热 CVD 设备，采用氧化铝炉芯管，整机一体化框架。三温区结构可以实现更长的恒温区间，适合石墨烯、二维材料、碳纳米管等薄膜研发，多用于高校与科研院所试样实验。设备集成管式加热炉、供气气路、真空排气、压力控制模块，工艺曲线可编程存储，适配多种碳氢工艺气体。
二、核心规格参数
炉芯管：氧化铝管，内径 φ24mm
加热温区：三温区独立控温
最高加热温度：常用 500‑1400℃，峰值 1500℃
炉内压力控制：5‑100Pa 可调
反应气体流量：2‑60sccm，兼容氢气、甲烷、乙烯、乙炔等工艺气体
真空系统：油回转真空泵，抽速 100‑150L/min
控制方式：多段程序升温，工艺参数可编辑存储
电源规格：单相 100V・50A
整机重量：134kg
安全配置：可燃气体报警、故障联锁停机、废气稀释排放单元
三、产品特点
三温区加热设计，长距离均温区域，样品受热均匀，成膜一致性更好。
氧化铝炉管耐高温，适合 1000℃以上高温 CVD 工艺。
5‑100Pa 压力可调，可实现多种低压工艺条件探索。
质量流量控制器精准控气，适配各类碳系薄膜生长实验。
完备安全防护，可燃气体报警联锁停机，废气稀释后排放，保障实验室安全。
整机预装配完成，现场接入气源即可开展实验，设备维护拆装简单。
四、应用领域
高校科研院所：石墨烯、碳纳米管、二维材料薄膜 CVD 制备。
新材料研发：各类碳基薄膜、纳米材料化学气相沉积试验。
材料实验室：高温薄膜生长、材料改性相关工艺开发。
通用工艺：需要长均温区的小尺寸试样高温低压 CVD 研发。