【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1001
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1001【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1001一、产品简介SFCV‑1001 为管式炉结构紧凑型热 CVD 设备，一体化整机框架，多用于石墨烯、碳系薄膜材料的研发制备，适合科研院校小试样工艺试验。设备整合管式加热炉、供气气路、真空排气、压力控制模块，操作便捷，可实现碳膜及多种薄膜材料化学气相沉
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1001
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 紧凑型CVD设备SFCV-1001
一、产品简介
SFCV‑1001 为管式炉结构紧凑型热 CVD 设备，一体化整机框架，多用于石墨烯、碳系薄膜材料的研发制备，适合科研院校小试样工艺试验。设备整合管式加热炉、供气气路、真空排气、压力控制模块，操作便捷，可实现碳膜及多种薄膜材料化学气相沉积实验。
二、核心规格参数
炉芯管：标配透明石英管，可选配氧化铝管
最高加热温度：石英管最高 1000℃，氧化铝管最高 1400℃
温区结构：单温区，程序控温
炉内压力控制：5‑100Pa 可调
反应气体流量：2‑60sccm，兼容氢气、甲烷、乙烯等工艺气体
真空系统：油回转真空泵机组
控制方式：程序升温，工艺参数可编辑存储
安全配置：可燃气体报警、故障停机、气体稀释排放单元
三、产品特点
紧凑型一体化机身，占地面积小，适配实验室摆放条件。
5‑100Pa 宽范围压力调节，可实现多种工艺条件试验。
单温区管式加热，升温曲线可编程，控温稳定。
气路兼容多种碳氢工艺气体，满足石墨烯、碳材料薄膜研发需求。
完善安全防护，可燃气体报警联锁停机，搭配气体稀释排放，保障实验安全。
原装整机出厂，管路、电控、真空系统预装配，现场接入气源即可开展试验。
四、应用领域
高校科研院所：石墨烯、二维碳材料薄膜 CVD 制备实验。
新材料研发：碳基薄膜、纳米材料试样化学气相沉积。
材料实验室：薄膜生长、材料改性相关工艺探索。
通用工艺：小尺寸试样低压化学气相沉积研发试验。