【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-12-80
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-12-80【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-12-80一、产品简介HSV‑12‑80 是大型电阻加热式真空蒸镀沉积设备，采用前开门水冷 SUS304 不锈钢腔体，搭载基板自公转机构以及基板加热功能，阀门采用自动控制模式。既可用于研发实验，也支持中小批量试样生产，能够蒸镀铝、铬等多种金属薄膜，可选配电子束蒸发、
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-12-80
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-12-80
一、产品简介
HSV‑12‑80 是大型电阻加热式真空蒸镀沉积设备，采用前开门水冷 SUS304 不锈钢腔体，搭载基板自公转机构以及基板加热功能，阀门采用自动控制模式。既可用于研发实验，也支持中小批量试样生产，能够蒸镀铝、铬等多种金属薄膜，可选配电子束蒸发、膜厚监控等功能模块。
二、核心规格参数
腔体规格：φ800×H700mm，前扉式水冷 SUS304 不锈钢腔室
极限压力：10⁻⁴Pa 级别
蒸发源电极：2 对，20V，最大 200A
内部机构：快门机构、电阻加热机构、基板自公转机构
基板加热：最高 300℃
主泵：12 英寸油扩散泵，可更换低温泵
辅助泵抽速：1500L/min
主阀规格：12 英寸
阀门操作方式：自动控制
三、产品特点
大容积水冷不锈钢腔体，热稳定性优秀，适合长时间连续镀膜作业。
基板自公转机构有效提升膜层均匀度，基板加热功能改善薄膜附着力。
全自动阀组流程控制，降低人为操作带来的误差，工艺重复一致性高。
以电阻蒸发为基础，可拓展电子束蒸发、膜厚监测组件，适配多种镀膜工艺。
腔体容积大，单次装样数量多，满足中小批量试样生产的使用需求。
日本原装成套设备，真空系统搭配成熟，前开门设计便于工件取放和腔体内部维护。
四、应用领域
高校科研院所：材料薄膜研究、大尺寸试样金属蒸镀实验。
光学行业：中大尺寸光学镜片、光学元器件金属膜层制备。
电子行业：元器件、半导体试样表面蒸镀金属导电薄膜。
新材料研发：各类基材表面金属薄膜沉积工艺试验。
通用工艺：中大尺寸样品电阻加热真空蒸镀中小批量处理。