【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-8-50
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-8-50【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-8-50一、产品简介HSV‑8‑50 为中型电阻加热式真空蒸镀沉积设备,采用水冷 SUS304 不锈钢真空腔体,配置基板公转机构与基板加热功能,阀门自动控制。兼顾科研实验与中小批量试样镀膜生产,可蒸镀铝、铬等多种金属薄膜,支持选配电子束蒸发、膜厚监控模块。二、核心规格
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【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-8-50
【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-8-50

腔体规格:φ500×H500mm,水冷 SUS304 不锈钢腔室
极限压力:10⁻⁴Pa 级别
蒸发源电极:2 对,20V,最大 200A
内部机构:快门机构、电阻加热机构、基板公转机构
基板加热:最高 300℃
主泵:8 英寸油扩散泵
辅助泵抽速:500L/min
主阀规格:8 英寸
阀门操作方式:自动控制
水冷不锈钢腔体,腔体热稳定性好,适合长时间连续镀膜作业。
搭载基板公转与基板加热,提升膜层均匀性,改善薄膜附着力。
自动阀组流程控制,减少人为操作失误,工艺重复性好。
电阻蒸发为主,可拓展电子束蒸发、膜厚监测组件,适配多样镀膜需求。
腔体容积更大,单次可处理多件样品,满足小批量生产需求。
日本原装成套设备,真空系统匹配成熟,维护拆装腔体部件便捷。
高校科研院所:材料薄膜研究、光学试样金属蒸镀实验。
光学行业:光学镜片、光学元器件金属膜层制备。
电子行业:元器件、半导体试样表面蒸镀金属导电薄膜。
新材料研发:各类基材表面金属薄膜沉积工艺试验。
通用工艺:中小批量样品电阻加热真空蒸镀处理。