【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空沉积设备HSV-3-30G

一、产品简介

二、核心规格参数

1. 腔体规格：φ300×H300mm，透明玻璃腔室

2. 极限压力：10⁻³Pa 级别

3. 蒸发源电极：2 对，10V，最大 150A

4. 内部机构：配备快门机构、电阻加热蒸发机构

5. 主泵：3 英寸油扩散泵

6. 辅助泵抽速：150L/min

7. 主阀规格：3 英寸

8. 阀门操作方式：手动操作

9. 基板旋转：无基板公转旋转机构

10. 基板加热：无基板加热配置

三、产品特点

1. 透明玻璃腔体，镀膜过程可以直接目视观察内部蒸镀状态。

2. 电阻蒸发结构，可实现多种金属薄膜制备，设备上手简单，适合科研试样开发。

3. 整机体积小巧，占用空间小，适配实验室有限场地摆放。

4. 基础机型功能完备，支持功能拓展，可升级电子束蒸发、膜厚监测组件。

5. 手动阀组，操作逻辑简单，维护拆装腔体部件便捷。

6. 日本原装成套设备，真空系统匹配稳定，蒸镀工艺重复性好。

四、应用领域

1. 高校科研院所：材料薄膜研究、光学试样金属蒸镀实验。

2. 光学行业：光学镜片、光学试样金属膜层制备。

3. 电子行业：小型元器件表面蒸镀金属导电薄膜。

4. 新材料研发：各类基材表面金属薄膜沉积工艺试验。

5. 通用工艺：小批量样品电阻加热真空蒸镀处理。