OTSUKA 大塚电子 光波动场三次元显微镜
OTSUKA 大塚电子 光波动场三次元显微镜OTSUKA 大塚电子 光波动场三次元显微镜一、基础信息产品型号：MINUK（光波动场三次元顕微鏡）测量原理：光波动场成像（振幅 + 相位）+ 傅里叶解析核心能力：透明体表面 / 内部三维形貌 + 折射率分布同时获取检测方式：一次拍照 = 完整三维体（无需对焦、无需 Z 轴扫描）主机尺寸（W×D×H）：约 450×550×650mm重量：约 80kg电源
OTSUKA 大塚电子 光波动场三次元显微镜
OTSUKA 大塚电子 光波动场三次元显微镜
一、基础信息
产品型号：MINUK（光波动场三次元顕微鏡）
测量原理：光波动场成像（振幅 + 相位）+ 傅里叶解析
核心能力：透明体表面 / 内部三维形貌 + 折射率分布同时获取
检测方式：一次拍照 = 完整三维体（无需对焦、无需 Z 轴扫描）
主机尺寸（W×D×H）：约 450×550×650mm
重量：约 80kg
电源：AC100–240V，300VA
适用样品：光学薄膜、TGV / 玻璃基板、半导体晶圆、光纤、生物细胞（无染色）
二、核心技术参数
视野范围：700×700μm（单帧）
XY 分辨率：0.5μm（光学），可达10nm（相位差）
Z 轴测量范围：±700μm（1400μm 景深）
Z 轴分辨率：10nm（相位）
拍摄速度：<1ms / 帧（一次获取全部深度信息）
测量波长：691nm（标准）、488nm（合成）
位相差测量范围：0–60,000nm
样品厚度上限：20mm（透明基材）
三、关键特点
透明体 “透视” 成像：可清晰看见透明薄膜内部划痕、异物、气泡、Mura，普通显微镜无法观察。
无需对焦、一次成三维：摒弃传统 “对焦→逐层扫描→重构”，一帧直接输出三维数据，效率提升百倍。
非破坏 / 非接触 / 无染色：全程不接触、不损伤、不染色，适合高价值半导体 / 光学元件、活细胞观测。
纳米级精度 + 大视野：700μm 宽视野与0.5μm 光学分辨率兼得，可快速定位缺陷并放大观察。
深度可任意切片：测量后可虚拟调整焦点，在任意深度生成截面 / 断层图像，识别不同层的异物。
高速 Mapping 拼接：自动拼接多帧，实现大面积（如 200mm 晶圆）三维均匀性检测。
四、典型应用
光学薄膜：表面划痕、层间异物、凝胶、气泡、Mura 定量观测。
半导体：TGV（玻璃通孔）孔径 / 裂纹、SiC 表面 / 内部缺陷、光刻胶形貌。
光通信：光纤熔接部、波导内部结构、端面三维形貌。
生物医疗：无染色活细胞、蛋白凝聚体、细胞膜三维形态。
显示行业：液晶盒 Gap、偏光片 / 保护膜内部缺陷。