OTSUKA 大塚电子 显微分光膜厚仪 OPTM-A2
OTSUKA 大塚电子 显微分光膜厚仪 OPTM-A2OTSUKA 大塚电子 显微分光膜厚仪 OPTM-A2可见光近红外波段显微分光膜厚检测设备，采用非接触无损检测方式，搭载自动移动平台，可完成微区、多层膜测试，同步获取膜厚、折射率、消光系数等参数，适用于显示、光学、半导体等常规精密膜层检测。一、基础信息品牌：OTSUKA 大塚电子型号：OPTM-A2测量原理：显微光谱反射法、光谱干涉解析法设备配
OTSUKA 大塚电子 显微分光膜厚仪 OPTM-A2
OTSUKA 大塚电子 显微分光膜厚仪 OPTM-A2
可见光近红外波段显微分光膜厚检测设备，采用非接触无损检测方式，搭载自动移动平台，可完成微区、多层膜测试，同步获取膜厚、折射率、消光系数等参数，适用于显示、光学、半导体等常规精密膜层检测。
一、基础信息
品牌：OTSUKA 大塚电子型号：OPTM-A2测量原理：显微光谱反射法、光谱干涉解析法设备配置：自带自动 XY 移动平台光谱波长范围：360nm~1100nm，覆盖可见光至近红外波段适用基材：玻璃、石英、硅片、金属、ITO、PI 膜、各类光学膜及半导体材料
二、技术参数
膜厚测量范围：7nm~49μm（二氧化硅基准）测量光斑：标准 φ10μm，可选 φ5μm、φ3μm 超小微光斑可解析膜层：最多支持 50 层复合膜结构重复测量精度：可达 ±0.1nm 级别单点测量时长：包含自动聚焦，单点位测量不超过 1 秒承载平台：自动 XY 平台，可适配 300mm 规格晶圆光源类型：卤素灯检测器：InGaAs 检测器检测项目：膜厚、绝对反射率、折射率、消光系数
三、产品特点
波段适配性广，针对 ITO、OLED、树脂涂层等常用膜层检测表现优异。
配备超小测量光斑，可完成微图案、器件边缘、芯片等狭小区域检测。
优化光学结构，有效规避透明基材背面反射干扰，保障测量准确度。
支持五十层复杂膜层解析，满足多层叠层结构样品的分析需求。
自动化程度高，搭配自动平台与自动聚焦，可实现整片样品扫描测绘。
全程非接触检测，不会划伤、损伤样品表面膜层。
配套操作软件带有解析引导功能，参数设置与数据分析简单易上手。
四、使用规范
设备安置在恒温、无尘、无震动、无强光直射的实验室环境。
开机前检查光路、镜头及载物台，保持设备表面与工作区域洁净。
放置样品时轻拿轻放，严禁触碰、刮擦光学镜头。
设备运行期间，禁止触碰自动 XY 移动平台，避免造成位置偏移。
定期对光学组件进行清洁养护，长期停用做好全面防尘防护。
非专业人员不得擅自修改系统底层参数与光路设置。
五、使用方法
接通电源，启动设备及配套软件，等待仪器完成自检与预热。
根据样品材质、膜层结构，在软件中设置对应检测参数。
将样品平稳放置在载物平台，完成位置校准。
选择单点测量或全域扫描模式，启动自动聚焦与检测程序。
测试完成后，查看并导出膜厚、光学系数等检测数据。
取下样品，清理载物台，依次关闭软件与设备电源。
六、应用场景
广泛应用于显示面板、光学元件、半导体器件、各类镀膜产品等领域，用于产品研发、工艺验证、日常品质管控。