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【高斯摩】ULVAC爱发科 涡轮分子泵 UTM300B

【高斯摩】ULVAC爱发科 涡轮分子泵 UTM300B【高斯摩】ULVAC爱发科 涡轮分子泵 UTM300B涡轮分子泵是实现高真空环境的重要设备,广泛用于半导体制造和研究设施。 该泵通过高速移动分子来有效地产生真空。涡轮分子泵由高速旋转的转子和固定定子组成。 转子的叶片与分子碰撞,使分子加速流向排气口,从而产生真空。 这个过程利用分子的动能并且非常高效。与其他真空泵相比,涡轮分子泵具有非常高的抽速

【高斯摩】ULVAC爱发科 涡轮分子泵 UTM300B

【高斯摩】ULVAC爱发科 涡轮分子泵 UTM300B

涡轮分子泵是实现高真空环境的重要设备,广泛用于半导体制造和研究设施。 该泵通过高速移动分子来有效地产生真空。

涡轮分子泵由高速旋转的转子和固定定子组成。 转子的叶片与分子碰撞,使分子加速流向排气口,从而产生真空。 这个过程利用分子的动能并且非常高效。

与其他真空泵相比,涡轮分子泵具有非常高的抽速,可以快速准备真空环境,并且由于不使用油,可以提供清洁的真空环境,非常适合半导体制造等精密工作,并且具有从低真空到超高真空的广泛适用性,并应用于各种行业和研究领域。

这是一种涡轮分子泵,带有一个使用磁浮轴承的独立控制器。 我们拥有排气速度为 300~4000L/s 的型号阵容。 控制器可以监控运行状态并支持各种通信标准。

这是一种使用陶瓷滚珠轴承的复合翼型涡轮分子泵。

通过将控制器和泵集成在一起,可以节省空间。

出色的高背压特性也使得减小辅助泵的尺寸成为可能。

长处

由于对安装方向或

安装方向没有限制,因此扩大了设备设计的自由度。

带有

车载控制器的控制器安装在涡轮体上,可有效减少配线和缩小排气系统的尺寸。

高压缩比和高排气压力

压缩比以及在高背压下运行的能力使辅助泵的小型化成为可能。

提供三种类型的法兰:

VG、ICF 和 ISO-K,有三种类型的进气法兰可供选择。

它旨在减少碳氢化合物的回流,不仅在清洁真空

运行期间,而且在泵停止时也是如此。

主要用于分析设备、研发设备、实验室设备等的排气系统。

气相沉积设备、溅射设备等的主要排气系统

用于 H2 和 He 等轻气体的主排气系统

UTM70B 系列UTM300B
冷却方式自然风冷强制风冷自然风冷强制风冷
法兰孔进气口 *1VG65、ICF114、ISO063-KVG100、ICF152、ISO100-K
排气口KF16 系列KF16 系列
抽速
(无保护网)
270 升/秒280 升/秒
60 升/秒270 升/秒
H2 型49 升/秒220 升/秒
极限压力
*2
烘烤后- *310-8- *310-8
烘烤前10-610-610-6
最大压缩比注 2 : >1×109, 他 : 4×107、H2 : 4×105注 2 : >1×109, 他 : 7×106, H2 : 1×105
最大入口压力
*4, *5, *6
20.43帕1.1帕0.06帕0.7帕
最大排气口压力
*4, *5, *7
2300帕900帕100帕1000帕
最大连续运行流量
*8
无气体
吹扫
215sccm *940sccm *910 厘米 *10100 平方厘米 *10
无气体
吹扫
氦气-10sccm *9-30 厘米 *10
带气体
吹扫
-15sccm *9-40 厘米 *10
推荐辅助泵
(10SCCM 吸力时)*11
60L/min 或更高120L/min 或更高
质量VG:3.3kg, ISF:3.0kg, ISO:5.0kg6.0 公斤 / 9.0 公斤6.3 公斤 / 9.3 公斤
转速87000转60000转
启动时间(最高 80%)
(24 VDC 时,背压 5 Pa 或更低)
1.7 分钟3.5 分钟
表面处理 *12没有
安装方向全方位
噪声 *1348 dB(A) 或更低50dB(A) 或更低
电源规格输入功率DC24V ±5%,120WDC24V ±5%,180W
触点输入和输出REMOTE(D-sub 15 针公头)4 个数字输入和输出,1 个模拟输出
串行通信RS-485 (D-sub 15 针公头,与 REMOTE 共享)
LED 指示电源、正常、警报
开关启动/停止,重置
变速转速可在默认泵数的 25%~100% 之间变化(以 0.1% 为增量设置)
异常检测检测警报、警告
保护行为警报、警告
标准配件使用说明书 (CD-R)、保护网(仅限 VG、ICF。 ISO 法兰集成在垫圈中)、垫圈
(用于进气口)、防尘帽(用于进气口、排气口、连接器)各 1 个
适用标准CE、TUVus


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