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【高斯摩】HAMAMATSU滨松 平板传感器C16401SK-51

2026-10-26 11:07:40 admin 1

【高斯摩】HAMAMATSU滨松 平板传感器C16401SK-51

【高斯摩】HAMAMATSU滨松 平板传感器C16401SK-51


产品概述

【高斯摩】HAMAMATSU 滨松 C16401SK-51 CMOS 型 X 射线平板传感器,一体化集成 GOS 闪烁体与光纤板,感光区域 140.0×122.8 mm,内置 1272×1104 像素面阵,自带读出控制板,千兆网口数字输出,专门用于二维面成像、锥束 CT、电池检测等工业 X 射线探伤。

核心参数

  • 有效像素:1272 × 1104(1×1 模式);636 × 552(2×2 合并模式)

  • 单像素尺寸:100 μm × 100 μm(1×1);200 μm × 200 μm(2×2)

  • 内置闪烁体:GOS(钆氧硫化物)

  • 极限管电压:160 kV

  • 典型空间分辨率:4.5 lp/mm

  • 动态范围:约 1900

  • 帧速率:21 fps(1×1 全幅读取)

  • 输出:16bit 数字信号,Gigabit 以太网

  • 感光面积:140.0 mm × 122.8 mm

  • 工作温度:0℃~+40℃(无凝露)

  • 存储温度:-20℃~+60℃

产品特点

  1. 一体封装 GOS 闪烁层,无潮解、余辉小,长期成像稳定性优于 CsI 闪烁平板

  2. 两种读出模式可切换:高分辨 1×1 模式 / 高信噪比 2×2 合并模式

  3. 低噪声 CMOS 面阵,带 CDS 相关双采样电路,抑制读出噪声

  4. 集成控制主板,直接网口输出,无需额外前端放大采集板,集成方便

  5. 视野大,适合锂电池、复合材料、铸件大面积二维探伤、锥束 CT 重建

  6. 和前面 S11212/S12362 线阵二极管区分:C16401SK-51 是二维面阵平板,一次性获取整张图像,不是线扫描

应用场景

锂电池内部缺陷检测、复合材料粘接探伤、铸件 X 射线数字成像、锥束 CT 检测、工业无损检测、科研射线成像、零部件内部异物检测。

使用注意事项

  1. 内置 GOS 闪烁体,不可打磨、剥离闪烁层

  2. 光纤入射窗口禁止硬物撞击、刮擦、强溶剂接触

  3. 控制板属于精密电子部件,使用环境要求控温、除湿

  4. 支持最高 160kV X 射线,不适合高能 γ 射线探测

  5. 千兆网传输,布线建议使用工业屏蔽网线,避免干扰


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