【高斯摩】Nitto Denko日东电工 热分离胶带 NWS-TS322F
2026-07-09 14:29:40
admin
2
【高斯摩】Nitto Denko日东电工 热分离胶带 NWS-TS322F
【高斯摩】Nitto Denko日东电工 热分离胶带 NWS-TS322F

一、产品概述
NWS-TS322F 是日东电工推出的热分离型临时固定胶带,主要应用于半导体晶圆搭配硬质基板的背面研磨工序。产品采用特殊复合胶层设计,常温状态下可以保持稳定的粘接效果,将待加工晶圆与支撑基板牢固结合,有效应对减薄、镜面研磨等加工流程。当完成加工后,通过加热处理即可让胶层粘接力快速下降,实现轻松剥离。该款胶带针对超薄、易碎裂晶圆优化设计,能够有效抑制加工过程中出现的翘曲、移位问题,剥离后晶圆表面洁净无残胶,不会损伤线路结构,广泛用于各类先进半导体封装与精密研磨制程。
二、规格参数
产品整体厚度为 148 微米,主体以 PET 薄膜作为基材,搭配双层功能性胶层,外观为白色。整体结构分为热分离胶层与常规压敏胶层,分工明确且性能稳定。常温环境下,热分离胶层对硅材质的粘接力为 1.7N/20mm,压敏胶层对硅材质粘接力为 1.5N/20mm。经过标准温度加热处理后,热分离胶层粘接力可降至 0.2N/20mm 以内,剥离难度大幅降低。
产品适配行业通用的 8 英寸、12 英寸晶圆规格,可匹配对应的自动化加工设备。常规在常温环境完成贴合作业,标准加热剥离温度区间为 100 摄氏度至 150 摄氏度。产品在高洁净车间生产,材质低析出、低污染,符合半导体行业相关环保与洁净标准,原厂密封储存可保障长期性能稳定。
三、核心特性
常温粘接强度适中且持久,晶圆与硬质基板贴合后结合紧密,在高速研磨、减薄加工的机械作用力下,不会出现滑移、错位的情况。胶带整体平整度高,配合硬质基板能够分担受力,有效改善超薄晶圆易下垂、翘曲的问题,显著降低晶圆碎裂风险,提升加工良品率。
依托热触发降粘原理,只需进行加温处理,胶层粘接性能便会快速衰减,剥离过程受力轻柔,不会对质地脆弱的超薄晶圆产生拉扯冲击,适配自动化流水线作业,也可满足人工操作需求。胶层配方经过特殊调配,化学性质稳定,无论是常温加工还是高温剥离环节,都不会产生残留胶体、污渍以及腐蚀性物质,全程保持表面洁净,保护晶圆表层电路。
胶带厚度均匀,贴合后不会产生凸起、气泡等问题,不会干扰研磨加工的精度。耐温区间合理,加工过程中可耐受研磨产生的常规温度变化,胶层性能不会提前改变,工序适配性强。整体结构韧性良好,跟随基板与晶圆形变能力佳,长期受压也不易出现脱层、破损现象,使用寿命稳定。
四、典型应用
核心用于半导体晶圆背面粗磨、精磨、镜面减薄全流程加工,尤其适合厚度偏低、材质易碎的超薄晶圆,常搭配支撑基板组合使用,是先进芯片封装制程中的重要配套材料。同时可用于各类半导体功能薄片、特种硬质基板的临时固定与背面加工,在晶圆转运、临时定位环节也可发挥作用。产品适配消费电子芯片、功率器件、传感芯片等不同品类晶圆的生产加工,覆盖主流半导体加工产线。
五、使用与储存要求
作业全程需在半导体标准洁净车间内进行,操作前清理晶圆、基板以及贴膜设备表面,去除粉尘、杂质与水汽。贴膜时控制运行速度与贴合压力,保证胶带完整附着,内部无气泡、无褶皱。进行加热剥离工序时,严格按照工艺标准控制温度与加温时长,避免局部温度过高影响晶圆与胶带性能。操作过程必须佩戴无尘专用手套,禁止徒手接触胶面。
产品存放于阴凉干燥、避光通风的洁净环境,远离热源、明火以及腐蚀性气体,同时避开长期光照环境,防止胶层提前发生性能变化。卷材与成品保持平放,不要重压、弯折,避免基材变形。原厂包装未使用前请勿随意拆封,开封后尽量在短期内使用完毕。搬运过程轻拿轻放,防止磕碰、划伤胶带表面,保障使用性能不受影响。