• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 单组分药物浓度计 LQ-5Z

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 单组分药物浓度计 LQ-5Z【高斯摩】KASAHARA笠原理化 单组分药物浓度计 LQ-5Z产品概述LQ-5Z 便携式单组分药液浓度计，采用电极电导法，每个机型对应单一化学药液，可直接读取药液浓度与水温，内置自动温度补偿，接液部件采用耐化学 PPS 材质，IP66 防水机身，半导体、化工产线可直接投入槽体检测，无需繁琐滴定操作。可根据需求选择不同药液专用型号：L

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V1

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V1【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V1产品概述H2O2-V1 便携式高浓度过氧化氢测定仪，采用钼黄吸光光度法，专门用于硫酸铜镀铜槽液里过氧化氢浓度检测，铜离子、硫酸共存条件下干扰小，高浓度样品无需稀释，仪器直接数字输出浓度，无需手工滴定和复杂换算，便携电池供电，适合 PCB 电镀产线现场取样点检。核心参数测量

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V2

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V2【高斯摩】KASAHARA笠原理化 过氧化氢浓度计H2O2-V2产品概述H2O2-V2 便携式过氧化氢浓度测定仪，采用吸光光度法，专门用于 PCB 镀铜槽液中过氧化氢浓度检测，无需手工滴定与复杂换算，仪器直接数字输出浓度。铜、铁、镍、铬等金属离子对测量干扰小，适合电镀产线现场快速取样点检。核心参数测量项目：镀铜液中过氧化氢 H₂O₂测

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镀层溶液中的硫酸浓度计H2SO4-55

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镀层溶液中的硫酸浓度计H2SO4-55【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镀层溶液中的硫酸浓度计H2SO4-55产品概述H2SO4-55 便携式硫酸浓度测定仪，采用吸光光度法，专为硫酸铜镀铜槽液设计，可直接读取镀液内硫酸浓度，无需传统酸碱滴定，省去人工换算。铜离子、硫酸根离子基本不干扰检测，高浓度样品无需稀释，手持便携，适合 PCB 电镀产线现场快速点检。核心参

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 氯离子计CLCU-55

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 氯离子计CLCU-55【高斯摩】KASAHARA笠原理化 氯离子计CLCU-55产品概述CLCU-55 便携式氯离子光度计，采用 90° 散射光光度法，专门用于硫酸铜镀铜槽液中氯离子浓度检测，无需手工滴定、人工换算，仪器直接数字输出浓度，自带自检功能，整机轻巧便携，适合 PCB、电镀产线现场快速点检硫酸铜镀浴氯离子。核心参数测量项目：硫酸铜镀液氯离子 Cl⁻测量

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镍浓度计 Ni-5Z

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镍浓度计 Ni-5Z【高斯摩】KASAHARA笠原理化 镍浓度计 Ni-5Z产品概述Ni-5Z 便携式镍浓度检测仪，采用吸光光度法，浸入式镍专用传感器，可直接测定硫酸镍、氨基磺酸镍、氯化镍等酸性镀液中的全镍浓度，同时读取吸光度数值。硼酸、氨类物质基本不干扰检测，自带热敏电阻自动温度补偿，适合电镀生产线槽液镍浓度现场快速点检；另有低浓度版本 Ni-5ZL 可选。核

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜镍浓度计CuNi-5Z

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜镍浓度计CuNi-5Z【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜镍浓度计CuNi-5Z产品概述CuNi-5Z 便携式铜镍二合一药液浓度计，采用吸光光度法，一支浸入式传感器可检测镀液中的铜、镍浓度，同时可读取硫酸铜浓度、吸光度与水温。搭载带参考光 LED 光源，自动补偿光源老化与温度漂移，接液部位采用耐化学 PFA 材质，适合 PCB、电子零部件行业硫酸铜镀液、镍电

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• 【高斯摩】KASAHARA笠原理化 便携式铜浓度计CU-5Z

  【高斯摩】KASAHARA笠原理化 便携式铜浓度计CU-5Z【高斯摩】KASAHARA笠原理化 便携式铜浓度计CU-5Z产品概述CU-5Z 手持式铜浓度检测仪，采用吸光光度法，配套浸入式 CUD-61 传感器，一台仪器可直接读取金属铜浓度、硫酸铜浓度以及摩尔浓度，搭载带参考光的 LED 光源，自动补偿光源老化与温度漂移，硫酸、过氧化氢环境下测量干扰小，专为电镀、蚀刻等高浓度铜药液现场检测设计。核心

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