【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 M-2LF
【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 M-2LF■ 手动型接触式掩模对准器。■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。■ 根据您的预算和应用，我们提供三种类型的曝光光源：准直器型、多镜型和积分器型。■ 我们有支持最大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。■ 更换面罩架和标本台很容易，使其成为研发应用的理想选择。【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 M-2
【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 M-2LF
【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 M-2LF
■ 手动型接触式掩模对准器。
■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。
■ 根据您的预算和应用，我们提供三种类型的曝光
光源：准直器型、多镜型和积分器型。
■ 我们有支持最大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。
■ 更换面罩架和标本台很容易，使其成为研发应用的理想选择。
【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 M-2LF
最大板尺寸 | φ6 英寸 | 显微分辨率 | 使用 20× 1.2μm 物镜时 |
最大基板厚度 | 2 毫米 | ||
最大蒙版尺寸 | 7×7 英寸 | 对准 间隙测量功能 | 无法安装 |
紫外线灯房 | 积分器类型 | ||
光 | >18mW/立方米（at405nm） | 纵器 移动范围 | X・Y±5mm 精细震颤 1/8mm1 旋转 θ： 70° 精细震动±7° Z ： 10mm 精细震颤 0.16mm |
| 照度均匀性 | <±5.0% | ||
| 曝光光源 | UV 灯 250W （可选 500W 规格） | ||
| 横向移动舞台 移动范围 | 选择 | ||
| 曝光波长 | 宽带（G、H 和 I 线） | ||
| 曝光定时器 | 0~999.9 秒 定时器设置类型 | 气体力学 | 无 |
| 氮 | 附加硬接点时： 0.5MPa | ||
| UV 灯 劣化校正功能 | 无法安装 | 真空 | 掩模和基材吸附 -0.08 MPa |
如何联系我们 | 软触点 （硬触点 /可选） | 隔振台 | 标准设备 |
| 权力 | AC100~110V 50/60Hz 20A | ||
对齐范围 | 双场显微镜 物镜间距 18~60mm | 尺寸 （mm/含隔振台） | 1000 瓦×1680 ×800 瓦 |
| 重量 | 280 公斤 |