【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 MA-10B
【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 MA-10B■ 手动型接触式掩模对准器。■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。■ 根据您的预算和应用,我们提供三种类型的曝光光源:准直器型、多镜型和积分器型。■ 我们有支持最大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。■ 更换面罩架和标本台很容易,使其成为研发应用的理想选择。【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 MA
【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 MA-10B■ 手动型接触式掩模对准器。■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。■ 根据您的预算和应用,我们提供三种类型的曝光光源:准直器型、多镜型和积分器型。■ 我们有支持最大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。■ 更换面罩架和标本台很容易,使其成为研发应用的理想选择。【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 MA
【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 MA-10B
【高斯摩】MIKASA米卡萨 对准机 MA-10B
■ 手动型接触式掩模对准器。
■ 可用于尺寸不规则的基板、硅、玻璃、化合物、薄膜等各种材料。
■ 根据您的预算和应用,我们提供三种类型的曝光
光源:准直器型、多镜型和积分器型。
■ 我们有支持最大 5×5mm~100×100mm 和 φ6 英寸的基板的型号。
■ 更换面罩架和标本台很容易,使其成为研发应用的理想选择。
【高斯摩】MISAKA米卡萨 对准机 MA-10B
最大板尺寸 | φ4 英寸 | 作单元 | 触摸屏类型 |
最大基板厚度 | 2 毫米 | ||
最大蒙版尺寸 | 5×5 英寸 | 联锁机构 | 掩模和晶圆吸附 Z 轴下限位置 范围摆动 UP/DOWN 位置 机械手抽屉载物台位置 |
紫外线灯房 | 准直器类型 | ||
光 | >8mW/c㎡(405nm) | 纵器 移动范围 | X・Y±6.5mm 精细震动 0.025mm1 旋转 |
| 照度均匀性 | <±8.5% | ||
| 曝光光源 | 紫外线灯 250W | ||
| 横向移动舞台 移动范围 | X/Y±50毫米 | ||
| 曝光波长 | 宽带(G、H 和 I 线) | ||
| 曝光定时器 | 0~999.9 秒 定时器设置类型 | 权力 | AC100V 50/60Hz 9A |
| 效用 | 空气:0.5MPa 内窥镜摆动/载物台锁定 N2 :0.5MPa 硬接触 真空 :-0.08MPa 掩模/基材吸附 | ||
| UV 灯 劣化校正功能 | 无法安装 | ||
对齐范围 | 双场显微镜 物镜间距 18~60mm | ||
显微分辨率 | 1.2μm ,带 20× 物镜 | 尺寸 (mm) | 750 瓦×600 ×650 深 |
| 重量 | 约 90 公斤 | ||
对准 | 无法安装 | 选择 | 专用隔振台、 真空泵、 三目镜筒监视器规格、 曝光光源 500W 规格 |