Osaka Vacuum大阪真空

Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵 TGkineMI4200B

对于易发生反应产物积累的器件,该系列采用我们独创的保温结构和自热机构,显著降低反应产物的沉积速率。传统磁浮轴承涡轮分子泵反应产物的对策一种加热包括目标部分在内的整个周围区域并分散热量的方法。 它不能被有效地使用。・ 目标区域外的热效应TGkineMI-B 系列的措施除了通过外部加热器提高温度外,还可以有效地利用泵内部产生的吸入气体产生的摩擦热,有效地提高气体接触部分的温度,减少外部加热器的输出功率

对于易发生反应产物积累的器件,该系列采用我们独创的保温结构和自热机构,显著降低反应产物的沉积速率。

传统磁浮轴承涡轮分子泵反应产物的对策


一种加热包括目标部分在内的整个周围区域并分散热量的方法。 它不能被有效地使用。

・ 目标区域外的热效应


TGkineMI-B 系列的措施

除了通过外部加热器提高温度外,还可以有效地利用泵内部产生的吸入气体产生的摩擦热,有效地提高气体接触部分的温度

,减少外部加热器的输出功率,提高节能效果!

・减少对主要部件的热影响,减少对泵的损伤。

・保持最佳温度,防止在排气管中产生产品。


  • 半导体、FPD、MEMS 制造等蚀刻设备

  • 易产生反应产物的工艺设备





首页
产品
新闻
联系