Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵 TG900MI

对于易发生反应产物积累的器件，该系列采用我们独创的保温结构和自热机构，显著降低反应产物的沉积速率。

传统的方法是加热整个周围区域

，包括反应产物的目标部分

对策，并分散热量。

・无法有效使用。

・对目标区域以外的区域的热效应

TG-MI 系列采取的措施

除了通过外部加热器提高温度外，还可以有效利用泵内部产生的吸入气体的摩擦热，有效地提高气体接触部分的温度

，减少外部加热器的输出功率，提高节能效果！

・减少对主要部件的热影响，减少对泵的损伤。

・排气管也采用隔热材料。 保持最佳温度并防止产品在排气管中形成。

用

• 半导体、FPD、MEMS 制造等蚀刻设备

• 易产生反应产物的工艺设备