Osaka Vacuum大阪真空 超低振动型涡轮分子泵 TG420ML

用EUV 光刻设备等下一代半导体制造设备高精度、高性能电子显微镜、分析设备、测量设备等半导体制造正在朝着 “小型化 ” 和 “高集成度 ”的方向发展。 同时，分析、测量和检查过程也要求“更准确”和“更复杂”。 为了进行微细加工和微观区域的测量和分析，即使改进了控制技术，设备振动也毫无意义。 因此，真空泵对减振的需求非常强烈。我们成功地将泵体的振动值抑制到 1 nm 或更小！ * 根据我们的测量方法