Osaka Vacuum大阪真空 超低振动型涡轮分子泵 TG390ML
用EUV 光刻设备等下一代半导体制造设备高精度、高性能电子显微镜、分析设备、测量设备等.半导体制造正在朝着 “小型化 ” 和 “高集成度 ”的方向发展。 同时,分析、测量和检查过程也要求“更准确”和“更复杂”。 为了进行微细加工和微观区域的测量和分析,即使改进了控制技术,设备振动也毫无意义。 因此,真空泵对减振的需求非常强烈。
用EUV 光刻设备等下一代半导体制造设备高精度、高性能电子显微镜、分析设备、测量设备等.半导体制造正在朝着 “小型化 ” 和 “高集成度 ”的方向发展。 同时,分析、测量和检查过程也要求“更准确”和“更复杂”。 为了进行微细加工和微观区域的测量和分析,即使改进了控制技术,设备振动也毫无意义。 因此,真空泵对减振的需求非常强烈。
用
EUV 光刻设备等下一代半导体制造设备
高精度、高性能电子显微镜、分析设备、测量设备等.
半导体制造正在朝着 “小型化 ” 和 “高集成度 ”的方向发展。 同时,分析、测量和检查过程也要求“更准确”和“更复杂”。 为了进行微细加工和微观区域的测量和分析,即使改进了控制技术,设备振动也毫无意义。 因此,真空泵对减振的需求非常强烈。