Osaka Vacuum大阪真空 柔性姿态复合分子泵 TG1400F
型TG1400F进气法兰VG200/ISO-B200/CF200抽速N2 (升/秒)1400N2(带保护网) (升/秒)1300H2 (升/秒)750最大压缩比N21×108H24.3×103极限压力(帕/托尔)<1×10-6/<7.5×10-9最大气体流速※1(SCCM)450启动时间(分钟)5.5-7停机时间(分钟)15-18允许的辅助压力(帕/托尔)330/2.5推荐的辅助泵(升
型TG1400F进气法兰VG200/ISO-B200/CF200抽速N2 (升/秒)1400N2(带保护网) (升/秒)1300H2 (升/秒)750最大压缩比N21×108H24.3×103极限压力(帕/托尔)<1×10-6/<7.5×10-9最大气体流速※1(SCCM)450启动时间(分钟)5.5-7停机时间(分钟)15-18允许的辅助压力(帕/托尔)330/2.5推荐的辅助泵(升
| 型 | TG1400F | |
| 进气法兰 | VG200/ISO-B200/CF200 | |
| 抽速 | N2 (升/秒) | 1400 |
| N2(带保护网) (升/秒) | 1300 | |
| H2 (升/秒) | 750 | |
| 最大压缩比 | N2 | 1×108 |
| H2 | 4.3×103 | |
| 极限压力 | (帕/托尔) | <1×10-6/<7.5×10-9 |
| 最大气体流速※1 | (SCCM) | 450 |
| 启动时间 | (分钟) | 5.5-7 |
| 停机时间 | (分钟) | 15-18 |
| 允许的辅助压力 | (帕/托尔) | 330/2.5 |
| 推荐的辅助泵 | (升/分钟) | ≧250 |
| 安装姿势 | 自由 | |
| 质量 | VG/ISO-B/CF(千克) | 29/30 |
| 控制器类型 | TC1103 系列 | |
・半导体制造
・电子枪排气、离子源排气
・FPD 制造
・表面处理、表面改性
・各种电子元件的制造
・分析、检测设备
・管材、光学元件的制造
・加速器、放射线设施、聚变研究
・热处理
・研发
* 排放腐蚀性气体时,请选择化学相容性 TG-M 或 TG 系列。