【高斯摩】日本原装 SATOVAC 佐藤 真空干燥机DH-TP型

一、产品简介

二、核心规格参数

1. 排气方式：油回转真空泵 + 涡轮分子泵机组

2. 极限压力：10⁻⁴Pa 级别（烘烤后常温空载）

3. 加热方式：搁板内置护套式加热器，内部加热

4. 控温方式：PID 程序温度控制，支持多段程序编辑存储

5. 最高使用温度：最高 650℃

6. 安全配置：真空异常联锁、双重过热保护、冷却水量监控、电机过载、漏电保护、故障声光报警

7. 腔体材质：SUS304 不锈钢抛光腔体

8. 门密封：氟橡胶 O 型圈，门法兰水冷结构

9. 真空测量：皮拉尼真空计、B‑A 电离真空计

10. 电源规格：三相 AC200V 50/60Hz

三、产品特点

1. 分子泵复合排气，获得洁净超高高真空，几乎无油返流，工件不会受到泵油污染，洁净等级高。

2. 搁板内加热结构，升温速度快，腔体内温度分布均匀，工件受热一致性良好。

3. 可存储调用多段温度工艺，升温、保温、冷却自动完成，减少人工介入。

4. 整套安全联锁，实时监控真空、温度、冷却水、电机状态，保护设备与精密加工工件。

5. 不锈钢抛光腔体，内腔洁净，杂质析出少，适配高洁净度工艺。

6. 工业产线机型，可长时间连续量产运行，检修维护简单方便。

四、应用领域

1. 半导体电子：半导体零部件、功率器件、真空元器件高洁净高真空高温脱气烘烤。

2. 光学行业：高端光学镜片、镀膜靶材、光学元件无油污染高温预处理除气。

3. 航天科研：航天零部件、精密试样高洁净真空退火、除气处理。

4. 新材料行业：特种粉体、复合材料、陶瓷工件高洁净真空烘烤前处理。

5. 通用工艺：对油污染敏感，需要超高高真空环境下大批量工件脱溶剂、高温除气工序。