OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H3
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H3OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H3一、基础信息型号：OPTM-H3（手持 / 嵌入型，NIR 近红外波段）原理：显微光谱反射干涉解析法（非接触、无损）波长范围：900–1600nm（近红外，标配红外卤素灯）测量光斑：标准 φ5/10/20/40μm，最小可达φ3μm（显微聚焦）外形：紧凑型测量头，可手持或嵌入产线重量：约
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H3
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H3
一、基础信息
型号：OPTM-H3（手持 / 嵌入型，NIR 近红外波段）
原理：显微光谱反射干涉解析法（非接触、无损）
波长范围：900–1600nm（近红外，标配红外卤素灯）
测量光斑：标准 φ5/10/20/40μm，最小可达φ3μm（显微聚焦）
外形：紧凑型测量头，可手持或嵌入产线
重量：约 4kg（测量头，不含控制器）
通信：USB、LAN（适配产线集成）
样品适配：透明 / 半透明 / 高吸收薄膜、厚膜、平面 / 微图案样品
二、核心技术参数
膜厚测量范围：16nm–92μm（SiO₂换算，系列上限最高）
膜厚重复精度：≤±0.1nm（SiO₂ 1μm 膜，2.1σ）
测量时间：≤1 秒 / 点（含自动对焦 + 光谱解析）
多层解析：最多支持 50 层膜同步分析
光学常数：同步输出折射率 n、消光系数 k
光谱分辨率：≤2nm
杂散光：＜1%
探测器：InGaAs（近红外高灵敏度适配）
三、关键特点
近红外厚膜专属：900–1600nm 波段，精准测量可见光无法穿透的厚膜、深色膜、高吸收膜（如厚光刻胶、树脂涂层、DLC）。
超大量程覆盖：膜厚上限 92μm，适配厚光学胶、保护膜、半导体厚氧化层、SiC/GaN 外延层等超厚膜检测。
微区无损检测：φ3μm 极小光斑，非接触无损伤，适配微图案、柔性基板、贵重样品与湿膜。
多层膜与 n/k 解析：支持 50 层叠层结构分析，同步输出光学常数，适配复杂厚膜系研发。
便携 + 在线双模式：手持可现场抽检，测量头可嵌入产线，适配离线抽检与在线质控。
抗干扰设计：反射物镜消除透明基板背面反射干扰，玻璃 / 石英基底测量更稳定。
操作极简：软件含初学者模式，一键拟合，新手易上手。
四、典型应用
半导体：晶圆厚氧化层、SiC/GaN 外延层、厚光刻胶、钝化膜、功率器件厚膜。
光学薄膜：红外截止膜、偏振膜、超厚增透膜、HC 硬膜、DLC 涂层、光学树脂层。
显示面板：大尺寸 LCD/OLED 厚光学胶、保护膜、偏光片、PI 膜。
功能性材料：柔性基板（PI/PET）、厚抗指纹涂层、光学胶、保护膜。
精密光学元件：透镜 / 棱镜厚镀膜、微型光学器件、光通讯元件、红外光学元件。