OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H1
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H1OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H1一、基础信息型号：OPTM-H1（嵌入 / 手持型，UV-Vis 波段）原理：显微光谱反射干涉解析法（非接触、无损）波长范围：230–800nm（紫外 - 可见光，标配氘灯 + 卤素灯双光源）测量光斑：标准 φ5/10/20/40μm，最小可达φ3μm（显微聚焦）外形：紧凑型测量头，可手
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H1
OTSUKA 大塚电子 显微微分光膜厚计 OPTM-H1
一、基础信息
型号：OPTM-H1（嵌入 / 手持型，UV-Vis 波段）
原理：显微光谱反射干涉解析法（非接触、无损）
波长范围：230–800nm（紫外 - 可见光，标配氘灯 + 卤素灯双光源）
测量光斑：标准 φ5/10/20/40μm，最小可达φ3μm（显微聚焦）
外形：紧凑型测量头，可手持或嵌入产线
重量：约 1.1kg（便携）
通信：USB（数据输出）、LAN（可选）
样品适配：透明 / 半透明 / 部分不透明薄膜，平面 / 微图案样品
二、核心技术参数
膜厚测量范围：1nm–35μm（SiO₂换算）
膜厚重复精度：≤±0.1nm（SiO₂ 1μm 膜，2.1σ）
测量时间：≤1 秒 / 点（含自动对焦 + 光谱解析）
多层解析：最多支持 50 层膜同步分析
光学常数：同步输出折射率 n、消光系数 k
光谱分辨率：≤2nm
杂散光：＜1%
数据输出：屏幕直显、USB 导出 Excel、软件图谱分析
三、关键特点
超小微区测量：φ3μm 极小光斑，精准测量芯片、显示屏等微图案 / 微小区域膜厚。
纳米级高精度：重复性 ±0.1nm 级，精度媲美椭偏仪，适配超薄膜（如 1nm 级 SiO₂）检测。
高速无损检测：1 秒完成单点测量，非接触无损伤，适配湿膜、软质膜、贵重样品。
多层膜与 n/k 解析：可分析 50 层叠层结构，同步输出光学常数，适配复杂膜系研发。
便携 + 在线双模式：手持可现场检测，测量头可嵌入产线集成，适配离线抽检与在线质控。
操作极简：软件含初学者模式，一键拟合，无需复杂建模，新手易上手。
抗干扰设计：反射物镜消除透明基板背面反射干扰，测量更稳定。
四、典型应用
半导体：晶圆光刻胶、SiO₂/SiN 绝缘膜、High-k 膜、钝化膜、SiC 外延层微区测厚。
显示面板：Micro-OLED 有机膜、ITO 导电膜、偏光片、彩色滤光片（RGB）、PI 膜。
光学薄膜：AR 增透膜、HC 硬膜、DLC 涂层、滤光片、波导膜、偏振膜。
功能性材料：柔性基板（PI/PET）、抗指纹涂层、光学胶、保护膜。
精密光学元件：透镜 / 棱镜镀膜、微型光学器件、光通讯元件。