OTSUKA 大塚电子 椭偏仪 FE-5000
OTSUKA 大塚电子 椭偏仪 FE-5000OTSUKA 大塚电子 椭偏仪 FE-5000一、基础信息型号分为标准型 FE-5000、桌面型 FE-5000S测量原理：旋转检偏器法 + 多通道分光偏振解析光谱波长范围：250nm~800nm，覆盖紫外至可见光波段光源：高稳定性氙灯测量光斑：φ1–5mm，尺寸可调入射角度：45°–90°，支持自动调节整机尺寸与重量FE-5000：1300×900×
OTSUKA 大塚电子 椭偏仪 FE-5000
OTSUKA 大塚电子 椭偏仪 FE-5000
一、基础信息
型号分为标准型 FE-5000、桌面型 FE-5000S测量原理：旋转检偏器法 + 多通道分光偏振解析光谱波长范围：250nm~800nm，覆盖紫外至可见光波段光源：高稳定性氙灯测量光斑：φ1–5mm，尺寸可调入射角度：45°–90°，支持自动调节
整机尺寸与重量
FE-5000：1300×900×1750mm，约 350kg
FE-5000S：650×400×560mm，约 50kg
二、技术参数
膜厚测量范围：0.1nm~1μm膜厚重复精度：≤0.01%椭圆参数精度：tanψ ≤ ±0.01，cosΔ ≤ ±0.01光谱通道数量：不少于 400 组单次全光谱测量时长：小于 1 分钟折射率测量范围：n=1.0~3.0消光系数范围：k=0~1.0最大适配样品：支持 300mm 晶圆，可搭配自动上下料机构
三、产品特点
光谱覆盖范围广，具备纳米级测量分辨率，适配各类超薄薄膜检测。
支持多层薄膜无损解析，最多可分析 10 层复合结构，同步完成膜厚与光学常数拟合计算。
入射角度全自动扫描调节，提升复杂薄膜、梯度膜、多孔膜的数据拟合精度。
多通道同步采集数据，检测效率高，可满足实验室分析与产线抽检需求。
配套分析软件功能完善，内置光学常数数据库，搭载多层拟合、有效介质近似、周期解析等算法，可自动生成检测报告。
四、应用场景
半导体行业：二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、高介电常数薄膜、光刻胶、金属薄膜等检测。
显示行业：OLED/TFT 取向膜、ITO 导电膜、偏光片、相位差膜性能表征。
光学领域：PET、PI 基材膜、光学涂布膜、增透膜、红外截止膜检测。
材料研发：二维材料、有机薄膜、多层堆叠结构的光学特性分析。
五、使用规范
设备安置在平稳、避光、无尘环境，远离强电磁干扰与震动源。
保持光路与光学镜片洁净，取放样品轻拿轻放，避免划伤表面。
依据样品结构选择对应的分析模型，非专业人员请勿擅自修改核心算法与参数。
定期使用标准试片完成设备校准，长期停机做好防尘防护。
六、使用方法
接通电源，启动设备与配套软件，完成设备预热及自检。
将待测样品放置于样品台，完成位置校准。
设置入射角度、测量模式、薄膜结构模型等参数，启动检测。
设备自动采集光谱数据并完成拟合分析，查看、保存或导出检测报告。
检测结束后取出样品，清理台面，依次关闭软件与设备电源。