OTSUKA 大塚电子 膜厚量测仪 FE-300
OTSUKA 大塚电子 膜厚量测仪 FE-300OTSUKA 大塚电子 膜厚量测仪 FE-300一、基础信息品牌：OTSUKA 大塚电子型号：FE-300，包含 V、UV、NIR 三个细分版本测量原理：反射分光干涉法、绝对反射率解析法设备形态：台式一体机整机尺寸：280×570×350mm整机重量：约 24kg供电规格：AC100V±10%，额定功率 300VA数据接口：USB 接口二、各版本技术
OTSUKA 大塚电子 膜厚量测仪 FE-300
OTSUKA 大塚电子 膜厚量测仪 FE-300
一、基础信息
品牌：OTSUKA 大塚电子型号：FE-300，包含 V、UV、NIR 三个细分版本测量原理：反射分光干涉法、绝对反射率解析法设备形态：台式一体机整机尺寸：280×570×350mm整机重量：约 24kg供电规格：AC100V±10%，额定功率 300VA数据接口：USB 接口
二、各版本技术参数（以二氧化硅为测量基准）
FE-300V 可见光标准型
光谱波长：450nm~780nm膜厚测量范围：100nm~40μm测量光斑：φ3mm、φ1.2mm 两种可选
FE-300UV 紫外薄膜型
光谱波长：300nm~800nm膜厚测量范围：10nm~20μm测量光斑：φ3mm、φ1.2mm 两种可选
FE-300NIR 近红外厚膜型
光谱波长：900nm~1600nm膜厚测量范围：3μm~300μm，特殊工况下超厚膜最高可测 1.5mm测量光斑：φ3mm、φ1.2mm 两种可选
通用参数
单点测量时长：0.1 秒至 10 秒可设置支持解析膜层：最多 10 层复合膜测量精度：整体误差≤±0.2nm，重复精度≤±0.1nm检测项目：膜厚、绝对反射率、折射率、消光系数光源配置：可见光、近红外版本采用卤素灯，紫外版本采用氘灯适配样品：最大支持直径 200mm、厚度 5mm 以内样品，兼容 8 英寸晶圆
三、产品特点
机身小巧紧凑，占用空间小，采购及使用成本低，适配常规检测场景。
非接触式无损检测，不会划伤样品表面与膜层，可反复测试。
三款机型覆盖紫外、可见光、近红外波段，按需选择可适配超薄膜、常规膜、超厚膜等不同样品。
具备多层膜解析能力，可分析十层以内复合膜结构。
测量精度高，数据稳定性好，满足常规精密质控要求。
操作流程简单，无需复杂对焦调试，上手难度低。
四、使用规范
设备放置在无尘、避光、无剧烈震动的室内环境。
保持检测台面洁净，样品表面清理干净后再进行测量。
轻拿轻放样品，避免磕碰设备光学窗口。
按照样品类型选用对应机型与光斑规格，合理设置测量时长。
定期清洁光学部件，长期停用做好防尘处理。
非专业人员请勿改动设备底层参数。
五、使用方法
接通电源，启动设备与配套软件，等待完成自检。
根据样品膜层特性，选定测量模式并设置相关参数。
将样品平稳放置在检测工位，对准测量区域。
启动检测，完成后查看、导出并保存数据。
取出样品，清理台面，使用完毕后关闭设备电源。
六、应用场景
广泛应用于半导体晶圆、光学镀膜、光刻胶、树脂涂层、功能薄膜等产品检测，多用于实验室日常分析、生产线来料检验、成品抽样质检。