【高斯摩】OHKURA大仓 金属隔膜减压阀 RD210A4
【高斯摩】OHKURA大仓 金属隔膜减压阀 RD210A4【高斯摩】OHKURA大仓 金属隔膜减压阀 RD210A4一、产品概述RD210A4 属于 RD210A 系列全金属隔膜减压阀，基础结构和 RD210A1 一致，核心差异在于通径更大、流通能力更强，适配中等流量高压特种气体工况。整机采用焊接式金属波纹隔膜密封，介质通路无橡胶件、无润滑油脂，泄漏等级低、洁净度极高，可直接对接高压特种气体钢瓶。
【高斯摩】OHKURA大仓 金属隔膜减压阀 RD210A4
【高斯摩】OHKURA大仓 金属隔膜减压阀 RD210A4
一、产品概述
RD210A4 属于 RD210A 系列全金属隔膜减压阀，基础结构和 RD210A1 一致，核心差异在于通径更大、流通能力更强，适配中等流量高压特种气体工况。整机采用焊接式金属波纹隔膜密封，介质通路无橡胶件、无润滑油脂，泄漏等级低、洁净度极高，可直接对接高压特种气体钢瓶。常搭配 MV 系列微阀、CF 系列稳流阀、MF 系列质量流量计搭建成套特气控制管路，多用于半导体、光伏、实验室中等气量高纯 / 腐蚀性工艺供气场景。
二、核心规格
压力性能
最高进气压力 14.7MPa，阀体耐压 24.5MPa；多档输出压力可选，覆盖 171.6kPa 至 2059kPa 常用工艺区间；气源压力衰减时输出波动控制在 1.3% 以内，稳压表现稳定。
流通特性
对比小流量款 RD210A1，本型号阀内流通孔径加大，流量系数更高，能够稳定供给中等气量气体，适配外延、薄膜沉积等需更大供气流量的设备。
密封与洁净度
金属隔膜一体化熔接密封；外部氦检泄漏≤1.013×10⁻¹⁰ Pa・m³/s，内部泄漏≤1.013×10⁻⁸ Pa・m³/s；出厂经过脱脂清洗、真空烘干、氦气检漏整套工序，符合半导体特气高洁净标准。
材质与使用温度
所有接触介质部件为 SUS316L 不锈钢，阀座采用耐腐蚀 PCTFE 材质；适用温度范围 - 10℃～80℃，可适配惰性气体、氧化性气体以及微量腐蚀性特种工艺气体。
调压与安装
调压重复精度高，调节迟滞小，多次设定压力数值一致性好；支持面板嵌入式、底部管路两种安装方式，标准内螺纹接口，适配洁净卡套管路，机身紧凑便于气柜集成排布。
三、产品优势
大通流设计，兼顾高压稳压与中等供气流量，弥补 RD210A1 仅适用于微量供气的局限，一台阀体可满足中流量特气工艺需求。
全金属无油密封结构，无有机物析出，面对硅烷、氯化氢等腐蚀、剧毒特种气体，不会污染介质，避免生产工艺缺陷。
超高耐压性能，可直接连接高压特种气体钢瓶，无需额外前置粗减压，简化整套气路布局，减少配套元件数量。
真空级低泄漏标准，大幅降低易燃、有毒特气泄漏风险，提升车间生产安全等级。
宽温耐腐蚀通路，适用介质种类更广，低温环境同样能稳定调压运行。
内部隔膜、阀芯组件可单独拆解更换，无需整体更换阀体，降低设备运维成本与停机时长。
可串联全系大仓流体控制元件，压力、流量监测数据可接入配套控制器、记录仪，完整保存工艺参数，满足行业生产溯源审核要求。
四、适用行业场景
半导体外延、薄膜沉积中等流量特种腐蚀气体稳压；光伏电池镀膜工艺高压高纯供气；实验室中流量特种钢瓶气源调压；环保腐蚀标准气体标定设备；中型真空反应装置高纯特种气体输送管路。