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EBARA荏原 涡轮分子泵 EBT220F

涡轮分子泵应用领域半导体制造:在半导体生产过程中,涡轮分子泵用于光刻、薄膜沉积、离子注入和蚀刻等工艺,提供高洁净度的真空环境。科学研究:在粒子加速器、核聚变实验、表面物理和材料科学等领域,涡轮分子泵用于实现超高真空环境。航空航天:用于模拟太空环境,测试航天器部件在真空条件下的性能。光学镀膜:在光学镜片、滤光片和激光元件的镀膜工艺中,涡轮分子泵提供无污染的真空条件。分析仪器:用于质谱仪、电子显微镜和

涡轮分子泵应用领域

半导体制造:在半导体生产过程中,涡轮分子泵用于光刻、薄膜沉积、离子注入和蚀刻等工艺,提供高洁净度的真空环境。

科学研究:在粒子加速器、核聚变实验、表面物理和材料科学等领域,涡轮分子泵用于实现超高真空环境。

航空航天:用于模拟太空环境,测试航天器部件在真空条件下的性能。

光学镀膜:在光学镜片、滤光片和激光元件的镀膜工艺中,涡轮分子泵提供无污染的真空条件。

分析仪器:用于质谱仪、电子显微镜和同步辐射装置等精密仪器中,确保高真空环境的稳定性。

医疗设备:在放射性同位素生产和医疗成像设备中,涡轮分子泵用于维持高真空环境。


涡轮分子泵特点

高转速:涡轮分子泵的转子转速通常高达每分钟数万转,甚至超过10万转,以确保气体分子能够被有效捕捉和排出。

无油污染:与油封式真空泵不同,涡轮分子泵在运行过程中无需油液润滑,避免了油蒸气对真空环境的污染,特别适合高洁净度要求的应用。

宽压力范围:涡轮分子泵能够在高真空(10^-3 Pa至10^-10 Pa)范围内高效工作,与前置泵配合可实现从大气压到超高真空的抽气。


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