【高斯摩】原装CEMCO施美克 数字式化学搅拌机TCMD-805
【高斯摩】原装CEMCO施美克 数字式化学搅拌机TCMD-805
【高斯摩】原装CEMCO施美克 数字式化学搅拌机TCMD-805

产品概述【高斯摩】原装 CEMCO 施美克 TCMD-805 数字式化学搅拌机,属于 TCMD 系列数字化立式搅拌器,搭载 DC 无刷电机,自带数字显示屏,支持外部模拟量信号联动控制,可接入 PLC、液位传感器等自动化系统,采用高效抑漩涡叶轮,搅拌均匀稳定,接液部件耐化学腐蚀,适合半导体、电镀、水处理等自动化产线药液精准搅拌调配。
核心参数型号:TCMD-805 电源规格:DC24V 额定输出:80W 叶轮直径:50mm 转速调节范围:450~2700rpm 最大搅拌容量:200L 安装法兰:JIS 5k 50A 法兰 整机重量:1.8kg 控制信号:支持 4-20mA / 1-5V 外部模拟量输入,带转速反馈、故障信号输出 显示:4 位 LED 数字显示屏,实时显示转速 接液材质:PP、PPS、钛轴,防腐树脂叶轮 轴长:700mm
产品特点
无刷直流电机驱动,寿命长、发热量低、转速稳定,抗负载波动能力强。
数字面板设定转速,LED 实时显示实际转速,转速控制精度高,最小调节幅度可达 10rpm。
支持外部信号联动控制,可和液位、浓度、称重传感器联动,实现工艺自动调速,适配自动化系统集成。
专用高效叶轮,基于造船流体技术设计,抑制液面漩涡,减少气泡卷入,适合 CMP 抛光液、精密药液搅拌。
自带过载保护,负载超标自动停机并触发故障报警,防止电机损坏。
钛合金搅拌轴搭配防腐叶轮,耐酸碱、盐水等各类化学药液腐蚀。
机身轻量化,体积小巧,标准法兰安装,拆装维护便捷。
具备双定时模式,可预设两段转速与运行时长,满足分段搅拌工艺。
应用场景半导体 CMP 抛光浆液搅拌、电镀药液调配、精密化学试剂混合、水处理药剂溶解、废液中和搅拌、水培营养液配比、实验室精密搅拌工艺。
使用注意事项
使用前确认药液与接液材质兼容性,强溶剂、强氧化性介质提前核验。
不适合高粘度物料,粘度过高容易触发过载保护。
启动前叶轮必须完全浸入液面,严禁空转。
外部信号接线严格按照说明书,避免信号干扰导致转速异常。
定期检查搅拌轴、叶轮腐蚀、松动情况,及时更换磨损配件。
长期停用取出,清水冲洗轴与叶轮,晾干存放,防止药液结晶腐蚀。
避免硬质杂质进入槽体,防止撞击损坏叶轮。
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