【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-800

【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-800

【高斯摩】KASAHARA笠原理化 铜浓度监测仪 CU-800

产品概述

CU-800 一体式在线铜浓度监测仪，采用吸光光度检测原理，检测单元与信号转换器集成一体化，用于硫酸铜镀液、铜蚀刻液中二价铜离子连续在线监测。自带光源参考补偿，抑制 LED 光源老化带来的漂移，内置自动温度补偿，可 24 小时不间断实时采集铜浓度数据，信号接入自控系统，实现电镀、蚀刻产线药液自动管控。

核心参数

测量项目：镀液 / 蚀刻液中的铜离子 Cu 测量原理：吸光光度法，带光源参考补偿与自动温度补偿 量程二选一：

• 高浓度：0.0～80.0g/L，分辨率 0.1g/L

• 低浓度：0.00～20.00g/L，分辨率 0.01g/L 精度：±2% FS 以内（恒温条件） 显示：4 位红色 LED 数字显示 信号输出：隔离 DC4～20mA 模拟信号 报警接点：上下限无源 a/b 报警接点，AC200V 1A 供电：AC100～240V，50/60Hz 接液材质：石英玻璃、PPS、耐酸碱树脂 安装方式：管路一体式流通安装 适用水样温度：0～70℃

产品特点

一体化集成设计，检测单元与主机一体，安装、校准、维护便捷；自带参考光路，自动补偿光源衰减，长期在线稳定性优异；自动温度补偿，降低药液温度波动造成的测量偏差；高低浓度报警接点，浓度超标输出开关信号；4-20mA 隔离输出，对接 PLC 实现自动加药闭环控制；支持零点、跨度校准，现场点检方便；适配硫酸铜镀铜液、铜蚀刻液等主流 PCB 工艺药液。

应用场景

PCB 线路板硫酸铜电镀槽铜浓度在线监测；电子、五金零部件酸性镀铜生产线药液监控；印刷电路板蚀刻工艺铜离子连续监测；电镀自动化产线铜浓度闭环管控；蚀刻中试生产线在线药液监测。

使用注意事项

水样大量悬浮杂质、有机添加剂会干扰吸光度读数；光学窗口禁止划伤、沾染油污，需定期清洁；仅适用于硫酸铜镀液、铜蚀刻液体系，多组分复杂混合槽液需要提前评估；定期使用标准溶液完成零点与跨度校准；安装位置避开强光直射与剧烈震动；管路废液按照危废规范处置。