【高斯摩分享】高低氧气氛精准监测｜日本 NGK TF-SD201R 分体式氧化锆氧分析仪技术详解
【高斯摩分享】高低氧气氛精准监测｜日本 NGK TF-SD201R 分体式氧化锆氧分析仪技术详解
【高斯摩分享】高低氧气氛精准监测｜日本 NGK TF-SD201R 分体式氧化锆氧分析仪技术详解
一、设备概述
TF-SD201R 整套设备由 AS-210 氧化锆传感探头与 DTF-201R 显示变送主机组成，搭载 NGK 自研双室氧化锆陶瓷检测核心，专门适配热处理渗碳炉、陶瓷烧结窑、工业加热炉等高温工况。分体式安装结构适配复杂炉体布局，可同时实现氧化、还原气氛氧含量稳定检测，兼顾高低氧浓度测量需求。
二、核心技术参数
测量量程：0~5%、0~10%、0~25% 常规氧量程，支持 - 15~25% 还原负氧区间，量程一键切换
检测精度：0~10%/25% 量程重复性 ±0.5% FS；低氧、负氧区间 ±1% FS
响应特性：90% 信号阶跃响应≤10 秒，整机预热仅 3 分钟，可快速投入在线监测
信号输出：标配 4~20mA 模拟电流输出，可选 0~1V/0~5V/0~10V 电压信号，搭载 RS232 数字通讯接口
报警配置：4 路继电器触点输出，可自定义氧含量上下限预警、设备故障、待机状态提醒
供电条件：AC100V/AC200V 50/60Hz 通用供电，整机功耗 50VA
主机外形：96×96×170mm 标准盘装规格，通用控制柜开孔，替换安装便捷
三、核心产品优势
双室氧化锆传感结构，无需持续通入标准参考空气，仅需单点空气校准，大幅降低运维耗材成本
分体式设计，探头可直接插入高温炉体，无需增设复杂烟气降温预处理装置，简化现场管路布局
宽量程覆盖氧化、还原两类工艺气氛，正负氧数值同步显示，渗碳、烧结、燃烧全流程通用
短预热、快响应特性，适配间歇性启停炉窑，减少设备待机能耗
盘装式数字显示主机，故障代码可视化，多路报警输出，现场检修操作简单
四、主流应用场景
热处理行业：渗碳炉、回火炉、辐射管炉气氛管控，稳定工件渗碳层均匀度
陶瓷烧制：隧道窑、梭式窑、回转窑气氛调控，降低烧制不良品率
热力工业：工业锅炉、加热炉尾气检测，优化燃烧效率，节约燃料消耗
新材料领域：粉体煅烧、密闭还原烧结炉氧含量实时监控
五、使用注意事项
样气流量稳定控制在 0.5L/min，流量波动会直接降低测量重复性
高粉尘工况需定期清理探头陶瓷过滤层，避免堵塞拖慢响应速度
建议每月开展一次空气单点校准，长期保障测量精准度
主机远离高温热源与变频器等强电磁设备，信号线与动力电缆分开布线
六、方案总结
NGK TF-SD201R 依托自研氧化锆陶瓷核心技术，解决工业炉窑高低氧、还原气氛检测难点，安装流程简单、校准便捷、长期维护成本低，是热工、陶瓷、热处理行业炉内气氛在线监测标准化检测设备。
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